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Deposición de capas atómicas ALD máquina de recubrimiento para SiO2-ZrO2 SiO2-TiO2 película óptica

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.6 yrsCN
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Atributos clave

Otros atributos

Tipo
Atomic Layer Deposition
Tipo de máquina
Atomic Layer Deposition
Video saliente de inspección
Siempre
: Informe de prueba
Siempre
Marketing tipo
Producto caliente 2019
Garantía de los componentes principales.
1 año
Los componentes principales.
De la bomba
Lugar del origen
Henan, China
Garantía
1 año
Clave de puntos de venta
Precio competitivo
Industrias aplicables
LAB
Exposición de ubicación
Ninguno
Peso (KG)
100
Sustrato
Acero
Condición
Nuevo
Revestimiento
Recubrimiento al vacio
Marca
TN
Voltaje
customization
Energía (W)
customization
Dimensión (L*W*H)
customization
Tipo de máquina
Equipo de recubrimiento
Product name
Single Chamber Type Atomic Layer Deposition System
Application
Microelectronics, nanomaterials, optical films, solar cells
Technology
Atomic Layer Deposition ALD
Sample table size
4-12 inches
Substrate heating temperature
RT-400℃; ±1 ℃
Number of precursors
4-8
Precursor source pipeline temperature
RT-200 ℃; ±1 ℃
Source container temperature
RT-200 ℃; ±1 ℃
Deposition mode
fast mode, high aspect ratio mode, professional doping mode
Optional
fume hood, glove box, film thickness in-situ online measurement

Embalaje y entrega

Paquete
Standard export fumigation sign wooden box packaging
Puerto
Zhengzhou;Qingdao;as customer request

Capacidad de suministro

Capacidad de suministro
100 Set/s per Month
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Plazo de entrega

Cantidad (conjuntos)1 - 1 > 1
Hora del Est.(días)30Para negociar

Descripciones de productos del proveedor

Cantidad mínima de pedido: 1 conjunto
EUR 29,149.61 - EUR 32,910.85

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