Lugar del origen
Zhejiang, China
Número de Modelo
Silcon Alumium Rotary Target
Composición Química
90% Si + 10wt % Al / 92wt % Si + 8wt % Al
Nombre del producto
Objetivo de Sputtering
Densidad teórica
2,36 (g/cm3)
Impureza del metal
Fe≤ 300,Ni≤ 100,Cu≤ 100, total≤ 1000 de Otros≤ 500
Contenido de impurezas no metálicas
O≤ 6500,N≤ 1000
Resistividad eléctrica (Ω-CM)
≤ 0,1