Objetivos de pulverización catódica de aleación NiV de níquel vanadio 99.95% para revestimiento de película delgada

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Hunan Boyu Technology Co., Ltd.2 yrs

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Atributos clave

Especificación esencial de la industria

Uso

Revestimiento al vacío, SEMICONDUCTOR

Otros atributos

Lugar del origen

Hunan, China

Marca

BoYu

Número de Modelo

BY-NiV 01

Forma

Planar, Rotatorio, Pellets, Ingotes

Material

Vanadio Níquel

Composición Química

NiV

Nombre del producto

99.95% de aleación de níquel vanadio NiV objetivos de pulverización catódica para recubrimiento de película delgada

Palabra clave

99.95% Níquel Vanadio NiV Aleación Sputter Objetivos

Pureza

99,9%-99,95%

Aplicación principal

Revestimiento de semiconductores y decoración

MOQ

1 PCs

Tamaño

Tamaños personalizados

Embalaje

Paquete de vacío

Entrega

15-18days

Certificado

ISO9001:2015

Superficie

Pulido brillante

Embalaje y entrega

Unidades de venta:

Un solo artículo

Tamaño de paquete único:

XX cm

Peso bruto único:

Plazo de entrega

Cantidad (piezas)	1 - 1	2 - 10	> 10
Hora del Est.(días)	15	18	Para negociar

Personalizacion

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