Objetivos de pulverización catódica de cerámica 4N ITO Unión de óxido de estaño indio con placa de respaldo de cobre para revestimiento de película delgada
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Atributos clave
Especificación esencial de la industria
Uso
Thin film materials, semiconductors
Otros atributos
Lugar del origen
Hunan, China
Marca
XinKang
Número de Modelo
XK-ITO 04
Forma
Rectangle, Round, Rotary, Pellets, Ingots, etc
Material
Indium Tin Oxide
Composición Química
ITO
Product name
Competitive Price ITO Sputtering Target Indium Tin Oxide Round Disc
Purity
99.99%
Size
1''-8'',as your request
MOQ
1pc
Delivery time
15-18days
Technology
Sintering
Certificate
ISO9001:2015
Package
Vacuum Package
Keywords
Indium Tin Oxide Target
Main application
Flat-panel display, touch screen
Embalaje y entrega
Paquete
Paquete sellado al vacío en el interior; caja de madera en el exterior para objetivo de pulverización catódica ITO
Capacidad de suministro
Capacidad de suministro
100000 Kilogramo/s per Month Objetivo de pulverización Ito
Plazo de entrega
| Cantidad (piezas) | 1 - 1 | 2 - 10 | > 10 |
| Hora del Est.(días) | 15 | 18 | Para negociar |
Personalizacion
Embalaje personalizado
Pedido mínimo: 50
Para más detalles de personalización, enviar mensaje al proveedor
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$150.00
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$120.00
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