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4 "de diámetro Circular magnetrón pulverización fuente con DC o de fuente de alimentación
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Atributos clave
Otros atributos
Tipo
Pulverización fuente
Tipo de máquina
vacuum PVD coating accessories
Video saliente de inspección
Siempre
: Informe de prueba
Siempre
Marketing tipo
Producto caliente 2019
Garantía de los componentes principales.
1 año
Los componentes principales.
magnet
Lugar del origen
Henan, China
Garantía
1 año
Clave de puntos de venta
Precio competitivo
Industrias aplicables
Laboratorio
Exposición de ubicación
Ninguno
Sustrato
Acero
Condición
Nuevo
Revestimiento
Recubrimiento al vacio
Marca
TN
Voltaje
100-1000 V
sputtering diameter
110mm
Target diameter
4inches
max target thickness
3.17mm for non-magnetic target, 1.5mm for magnetic target
Shaft diameter
19mm OD
Cathode sputtering current
3Amp
Cathode sputtering voltage
100-1,000V
Operating pressure range
3-50mTorr
Power Requirement
DC 2000W, RF 1000W
Classification
Other
Embalaje y entrega
Paquete
Plastic paper inside, polyfoam filled, plywood box outside or as customized.
Puerto
Zhengzhou, Beijing or as customized
Capacidad de suministro
Capacidad de suministro
110 Set/s per Month magnetron sputtering gun
Plazo de entrega
| Cantidad (conjuntos) | 1 - 1 | > 1 |
| Hora del Est.(días) | 30 | Para negociar |
Descripciones de productos del proveedor
Cantidad mínima de pedido: 1 conjunto
VND 17,309,330 - VND 33,091,367Variaciones
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