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Deposición SiO2 Si3N4 Sistema PECVD de vapor químico mejorado por plasma

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Zhengzhou CY Scientific Instrument Co., Ltd.Fabricante personalizado10 yrsCN

Atributos clave

Especificación esencial de la industria

Garantía
1 año

Otros atributos

Lugar del origen
Henan, China
Clasificación
Equipos de calentamiento de laboratorio
Marca
CYKY
Número de Modelo
CYKY-PECVD
Palabras clave
El plasma aumentó el horno de tubo del CVD
Tubo del furnce
Tubo del cuarzo
Termopar
Tipo de K
Controlador de gas
Exhibición digital
Potencia de salida
5 -500W ajustable con estabilidad del ± 1%
Puerto de salida de RF
50 Ω, N-tipo, hembra
Poder de reflexión
200W máx.
Zona de calefacción
3-8 zonas
Max capacidad de alimentación
10 kg
Gama del flujo del gas
Desde 0 ~ 500 SCCM

Plazo de entrega

Cantidad (conjuntos)1 - 1 > 1
Hora del Est.(días)40Para negociar

Personalizacion

Customized logo
Pedido mínimo: 5
Customized packaging
Pedido mínimo: 5
Graphic customization
Pedido mínimo: 5

Descripciones de productos del proveedor

2 - 2 conjuntos
INR 2,798,380.20
>= 3 conjuntos
INR 2,713,580.80

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