¡Filtro químico para la eficacia y la capacidad máximas del retiro de los ácidos/Bases/VOC!
Este panel-tipo, filtro químico del alto-carbón-cargamento se diseña para los usos en industrias fabriles críticas, tales como Semiconductors/TFT LCD, para el retiro de concentraciones bajas de contaminantes moleculares aerotransportados (AMCs) - VOC, IPA, PGME, PGMEA, NOx, SOx, H2S, DMS, HMDS nítrico, NH3, NMP, ozono. Tienen diseños versátiles para combatir VOCs, los ácidos y las bases en un filtro combinado o para separar los filtros.
Como concentraciones de VOC y de AMC en la gama baja del ppb y del ppt sea perjudicial a la calidad del producto y la producción de la producción en estos usos, el retiro de esos gases dañosos en recintos limpios y otros usos llega a ser más significativa para proporcionar el nivel requerido de calidad del aire para los productos. ¡Y, eso es lo que promete este filtro químico de la espuma de la abrir-célula entregar!
¡Este filtro químico se diseña para FFU, MAU, la RCU y los usos generales con eficacia inicial del retiro del >99%!!
CARACTERÍSTICAS
Carbón impregnado (adaptador de canal a canal 85 impregnado) para lo más arriba posible la primera eficacia del retiro del paso
DISPONIBILIDAD
Ácidos, bases y retiro del VOC - CFPM | ||
Adsorción química | ||
DMS, HMDS nítrico, CNH, arsina, fosfina, clorinas, cloruro de hidrógeno, bromuro de hidrógeno, hidrógeno Flouride, dióxido de clorina, sulfuro de hidrógeno, sulfúrico, sulfuros Amoníaco, aminas, morfolina, NMP, HMDS, trietilamina, trimetilamina | ||
TAMAÑO: ¡600x600x50, 1200x600x50, 1200x1200x50 o tamaño de encargo disponibles!
Taiwan