Máquina del vacío------Energía del pulso/RF de la serie de las partículas del equipo de la farfulla del magnetrón del multi-compartimiento JGCF-350 sitio/del dispositivo/del tratamiento previo bipolares dismétricos de la vibración/sitio del post-processing/sistema del vacío/regulador del flujo del gas. Las partículas del polvo se utilizan principalmente en la membrana de la galjanoplastia, la película del semiconductor, película compuesta, película, medios, capa de múltiples capas.
Métodos de la capa | Magnetrón del RF que farfulla/farfulla bipolar asimétrica del magnetrón del pulso |
Tipos de la película | Metal las películas, películas dieléctricas, películas de la reacción, películas de óxido |
Fuente de alimentación | fuente de alimentación del pulso; |
Estructura de la blanco de la farfulla | blanco magnética permanente |
Compartimiento de vacío | Pre-abra las estructuras verticales, sistemas de bombeo de la posposición |
El vacío logrado más alto | Bomba molecular (PA 6.6×10-5); Bomba de difusión (PA 6.6×10-4) |
Bombas de vacío | Bomba molecular + bomba mecánica |
Velocidad de bombeo | Minuto de bombeo time≤20, de la presión atmosférica a 10-3Pa |
Uniformidad de la película | Las fluctuaciones del espesor del film son menos de el 5% |
Modo de operación del objeto | ¿Revolución, 0? cambio stepless de la velocidad de 20 RPM (ajustable y controlable) |
Medida del vacío | Calibradores de vacío compuestos de Digitaces |
Control del vacío | Control manual disponible de /PLC/PLC +HMI |
Control de flujo del gas | Control de flujo del gas de 2-3 caminos |
Protección | La alarma y la protección automática funcionan para el agotamiento del agua, flujo anormal, sobre fluir actual, sobre voltaje, y parada eléctrica, etc. |
Parámetros básicos | Power≥12KW; Área servida: 10m2 |
Dispositivos opcionales | Monitor del espesor del film del oscilador de cuarzo, fuente de ion de Pasillo, diagonal menos, refrigeración por agua y reciclaje de la máquina |
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