Tipo

PECVD-200

PECVD-450

PECVD-650

Dimensión del compartimiento de la deposición

Φ230×H300 milímetro

Φ450×H400 milímetro

Φ650×H600 milímetro

Dimensión de la plataforma del substrato

Φ100×10 milímetro

Φ120×12 milímetro

Φ150×15 milímetro

Índice de la rotación de la plataforma del substrato

0-20 RPM (ajustables)

Fuente de alimentación

Fuente de alimentación del RF

Bombas de vacío

Bomba molecular + bomba mecánica

El vacío logrado más alto

6. PA 6 ×10-5

Tipos de la película

Dieléctrico/semiconductor/de película metálica

Control de flujo del gas

3-4 control de flujo del gas del camino (opcional)

Compartimiento de vacío

Pre-abra las estructuras verticales, sistemas de bombeo de la Debajo-posición

Velocidad de bombeo

Minuto de bombeo time≤30, de la presión atmosférica a 10-3Pa

Uniformidad de la película

Las fluctuaciones del espesor del film son menos de el 5%

Medida del vacío

Calibradores de vacío compuestos de Digitaces, medida del vacío que se extiende de la presión atmosférica a PA 10-6

Control del vacío

Manual disponible/control del PLC/de PLC+HMI (opcional)

Protección

La alarma y la protección automática funcionan para el agotamiento del agua, flujo anormal, sobre fluir actual, sobre voltaje, y parada eléctrica, etc.

Parámetros básicos

Kilovatio Power≥10; Área servida: 4-20 m2; Peso 100-800 kilogramos

Dispositivos opcionales

Refrigeración por agua y reciclaje de la máquina, analizador de gas residual