Tipo | TZB450A | TZB450B | TZB450C |
Método de la capa | Capa de la evaporación de la resistencia + caja de guante | Capa de la farfulla del magnetrón + caja de guante | Evaporación + magnetrón de la resistencia que farfulla + caja de guante |
Tipos de la película | Sustancia simple, películas compuestas de los óxidos, de los dieléctricos, del semiconductor, etc. | Películas del metal/del no metal, etc. | Películas de la sustancia simple, películas del semiconductor, películas orgánicas, películas de óxido, películas de la reacción, películas dieléctricas, películas del superconductor, películas matálicas-cerámicas, películas ópticas, etc. |
Fuente de alimentación | Fuente de alimentación de Evapourate | Fuente de alimentación de DC/Bipolar pulse/RF | evapourate/fuente de alimentación bipolar del pulso |
Electrodos y blancos | electrodos | Varias blancos de la farfulla del magnetrón | electrodos, blanco de la farfulla del magnetrón |
Dimensión del compartimiento de vacío | Φ450×H400 milímetro | ||
Estructura del compartimiento de vacío | Pre-abra las estructuras verticales, sistemas de bombeo de la posposición, manuales empujar-y-tiran de manera | ||
El vacío logrado más alto | 6. PA 6×10-5 | ||
Bombas de vacío | Bomba molecular + bomba mecánica | ||
Velocidad de bombeo | Bombeando time≤20 minuto (minuto molecular) de la bomba/50 (bomba de difusión), de la presión atmosférica a 10-3Pa | ||
Uniformidad de la película | Las fluctuaciones del espesor del film son menos de el 5% | ||
Estructura de los electrodos | electrodos | ||
Farfulla del magnetrón | fuente de alimentación del pulso + targets× magnético permanente 1-3 | ||
Temperatura de cocción del objeto | Ajustable y controlable de temperatura ambiente al °C 300 (control de la temperatura del PID) | ||
Movimiento del objeto | 0-20 RPM ajustables y revolución/rotación stepless controlables del cambio de la velocidad | ||
Control del vacío | Control manual | ||
Medida del vacío | Bajo-alto × compuesto digital 2 del calibrador de vacío | ||
Control del vacío | Manual/control del PLC/del PLC + de HMI | ||
Protección | La alarma y la protección automática funcionan para el agotamiento del agua, flujo anormal, sobre fluir actual, sobre voltaje, y parada eléctrica, etc. | ||
Parámetros básicos | Kilovatio Power≥12; Área servida: 9 m2; Peso: ~800 kilogramos | ||
Dispositivos opcionales | Monitor del espesor del film del oscilador de cuarzo, refrigeración del fuente de ion de Pasillo, por agua y reciclaje de la máquina, limpieza de la Anti-farfulla, máquina de compresión del aire | ||
China